用于晶圆清洗设备的液环真空泵

晶片清洗系统包括一个清洁室清洁晶片,晶片放置的位置是提供清洁室中放置晶片,晶片放置位置可绕中心轴旋转晶圆放置位置的清洁液体放置在晶片表面的晶圆放置位置是剥离;清洗液体存储设备清洗室安排,包括:一个包含清洁液清洗液体包含墙,包括内壁和外壁,所提供的内壁表面通气孔,内壁和外壁形成一个封闭的空间;所述真空泵与所述密闭空间相连,用于对所述密闭空间进行真空,使所述密闭空间内的气压低于外界气压;所述清洗液安全墙围绕晶圆放置位置设置,所述内壁面向晶圆放置位置。晶片清洗装置可以防止清洁液体喷溅到包含墙的清洁液体从反弹的清洁液体包含墙,也可以防止二次污染造成的晶片的飞溅的清洁液体,并改善晶片生产的收益率。

下面我们就为大家介绍一种用于晶圆清洗设备的液环真空泵。有关液环真空泵的更多信息,请点击到联系我们

用于晶圆清洗设备的液环真空泵

液环真空泵的定期维护

随着真空设备行业的不断发展,我们都知道液环真空泵是一种常见的真空设备,因为它的优异性能。赢得了广大用户的喜爱。下面液环真空泵厂家就为大家介绍一下如何保养泵:

1.在液环真空泵的工作中,操作人员应注意检查设备轴承的工作情况和润滑情况。环境温度一般比设备轴承的温度高20℃,不应超过30℃~ 35℃。设备轴承的实际温度不应超过60℃。正常使用的轴承部件每年应上油4次左右,并应每年定期清洗。当然,要更换润滑油。

2.正常使用时,包装应定期压紧。当包装因磨损而不能满足设备密封要求时,我们需要更换新的包装。如果使用机械密封,如果我们发现有泄漏,我们需要检查的动态和静态环是否机械密封损坏或辅助密封是衰老,这就要求我们注意观察设备的使用过程中使用的设备。

3.当有特殊声响时,可以拆下盖板两端的压板,然后检查叶轮两端是否有损坏,再检查排气阀板是否有异常。

以上我们了解到液环真空泵的维护比较重要。定期对设备进行维护可以提高真空泵设备的性能,也可以延长设备的使用寿命。

液环真空泵

液环真空泵中的气体是否与水接触?

液环真空泵顾名思义,需要与水密切接触,所以很多人对设备中的气体是否与水接触有很多疑问。在这里,我们可以告诉你答案是肯定的。为什么会这样?让我们详细谈谈。

1.液环真空泵吸入的介质必须与水接触。如果介质溶解在水中,可更换液环真空泵的工作流体,如油、酒精或硫酸。

2.水射流真空泵的吸入介质是与水接触的,如果被泵的介质溶解在水中,水射流泵不适合使用。

3.就产生污染而言,这取决于你处理的水污染的数量。在用水量方面,液环真空泵的用水量约为水射流泵的1 / 5。

4.如果换其他液体做工作液,建议使用液环真空泵,至少可以降低换热成本

液环真空泵的气、水接触的相关问题就在这里为您简单介绍一下,希望您有更多的了解,从而帮助您更好的操作设备。同时,欢迎更多信息随时关注我们的网站。

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