应用中的分子泵应用

光学涂层是指通过真空溅射在光学部件表面上涂覆一个或多个金属薄膜的过程。涂覆光学部件表面的目的是改变材料表面的反射和传动特性。今天我们将谈论光学涂层。

光学薄膜技术的常用方法是通过真空溅射在玻璃基板上涂覆薄膜,这通常用于控制基板的反射率和透射率,以满足不同的需求。为了消除光学部件表面的反射损耗并改善图像质量,用于各种应用需求,使用高反射膜制造偏振反射膜,色性分裂膜,冷光膜和干涉过滤器等。

在涂覆光学部件的表面之后,光被反射并在涂层上多次反射并透过以形成多光束干扰。通过控制涂层的折射率和厚度,可以获得不同的强度分布。这是干涉涂层的基本原理。

光学薄膜需要在高真空镀膜室中实现。传统的涂层工艺需要提高基材温度(通常在300°C左右);而更先进的技术,如IAD,则可以在室温下进行。该工艺不仅可以制备出比传统涂层工艺具有更好物理性能的薄膜,而且可以应用于塑料基板。比如眼镜镜片。

常见的光学涂料如下

常见的光学涂料如下:

1.氟化物

材料特性:无色四方晶体粉,纯度高。可以通过使用它来增加透射率而不会破坏点来制备光学涂层。

2.硅

材料特性:无色透明晶体,高熔点,高硬度和良好的化学稳定性。具有高纯度,可以通过使用它具有良好的蒸发状态并且没有塌陷点来制备高质量的SiO2涂层。根据要求分为紫外线,红外和可见光。

3.氧化锆

材料特性:白色重结晶状态,具有高折射率和高耐温性,稳定的化学性质,高纯度,用于制备高质量的氧化锆涂层而无坍塌。

下面介绍几种应用广泛的光学镀膜技术,如等离子溅射和蒸发沉积。

等离子体溅射

等离子体溅射

等离子体溅射包括一系列已知技术,包括先进的等离子溅射和磁控溅射。一般概念来自等离子体的产生。然后将等离子体中的离子加速到源材料中,与松散的高能量离子碰撞,然后溅射到目标光学元件上。虽然每种类型的等离子体溅射都具有其独特的特征,优点和缺点,因为它们具有普通的操作概念,这些技术组合。

真空蒸发

在真空蒸发过程中,真空室中的源材料通过加热或电子束轰击蒸发。在蒸发期间,蒸汽冷凝到光学表面上并精确地控制加热,真空压力,基板定位和旋转,使得给定设计厚度的光学涂层保持均匀。真空蒸发可容纳更大的机器尺寸,并且通常比其他技术更具成本效益。

抽真空设备的主系统是由真空采集设备(油扩散泵、低温泵、分子泵)、电子束蒸发、光控、加热器控制、真空控制和自动过程控制一体化的整个镀膜机组成。

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应用中的分子泵应用

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